假千金在抢男人，七零真千金已上交国家 第134章 接受军方任务

苏砚醒来的时候，床的另一侧已经空了，摸着还带有余温的床铺，苏砚有些怅然若失。

不过，洗漱完之后，她就已经恢复了常态。

在去实验楼的路上，苏砚就被师兄江鸣半路劫走，直接去了卢教授的办公室。

一进门，卢教授正在和曹主任喝着茶水闲聊，看到苏砚进来，曹主任立刻热情的起身打招呼。

“小苏同志，好久不见啊！”

苏砚点头笑着回应，“曹主任，我们好像也就几天没见吧？”

“哎呀，小苏，你可不知道，我们部队通讯部上下研读了你给我们的《无线电通讯维修要领》，和《寒区升级收音方案》资料，简直醍醐灌顶，受益匪浅啊。

我们对你真是想念的紧，这不，我受领导委托又来麻烦你出马，给我们解决问题来了。”

苏砚客气的笑笑，有些不知道怎么回答，她们学生可以直接跨过老师接受外面的任务吗？

她不太了解，就将目光调转到卢教授身上。

卢兴德摸着下巴看着自己抢来的这个学生，越看越是满意，此刻接受到学生疑惑的目光，他起身解释道。

“鉴于你出色的能力，这件事还跟你前一段日子创造出来的小型集成电路有关。这个任务还真的非你莫属。

这是国家相信你的能力，你可别推辞啊！”

苏砚心里有底，这才好奇问道，“是什么任务啊？”

“上面希望将你的小规模集成电路量产，用于替代进口零散IC，优先保障军品供给。

我们想将军用电台、仪器仪表等国防关键装备都更换上我们国产的集成电路。”

这是好事啊！

苏砚立刻眼睛放光，当即应允，“可以，什么时候开始？”

曹主任闻言哈哈大笑，转头对卢兴德教授道，“教授，真不愧是您的学生，这性子就是急。我们想给你三天准备时间，你看够不？”

“不用三天准备，我现在就可以走。”苏砚回道。

革委会那边资料已经健全，却迟迟等不来回信，虽然听倪虹说，陆廷州已经查到了那个主任的把柄，将人弄下去又换了个主任，可按照正常流程来说，还要两三个月才能批复下来结果。

还有一个多月就过年了，苏砚希望在一个月内搞定量产的事情，然后她就可以凭借军功，风风光光去乡下将养父养母接回来过年。

看着苏砚亮闪闪的眼神，曹主任哈哈大笑，“行，那就现在走。不过，这次任务比较繁重，我们在京市光东工厂这边定下生产线后，还要去海城那边搞一条同样的生产线，你能出差吗？”

“完全没问题。”苏砚点头回道。

“行，那你现在就回去收拾东西，我就在这等着你。”曹主任也是个雷厉风行的人。

苏砚回宿舍简单收拾了几件换洗衣物，仅仅十分钟后就返回。

曹主任也没有二话，开车带着苏砚直奔国营光东工厂。

在曹主任的陪伴下，这里没有任何人为难看起来就很年轻的苏砚，大家都客客气气接受她的指导。

国营光东电工厂超净车间密闭无尘，恒温系统持续运转，滤尘设备发出细碎平稳的嗡鸣，消解了所有多余的声响。

整间车间笼罩在半导体工艺专用的暖黄色安全灯下，褪去了刺眼的白光，只为保护光刻胶涂层不受光线干扰。

空气里浮动着高纯氮气、光刻胶与有机溶剂交织的清冷淡味，每一寸空气都经过层层过滤，连飘落的微尘都近乎绝迹。

身着全套白色洁净服的众人包裹得严严实实，头罩、口罩、无菌手套、无尘鞋缺一不可，只露出一双双凝神专注的眼睛，在暖黄灯光下熠熠生辉。

苏砚伫立在光刻工艺操作台旁，身姿挺拔沉稳。

连日扎根车间通宵调试，她的眼底藏着淡淡的青黑，眉眼间却没有半分疲态，只剩极致的专注与笃定。

面前的操作台一尘不染，整齐摆放着待测试的硅片、精密镊子、刻度记录本与调试工具，页面上密密麻麻写满了迭代数百次的工艺参数。

栅氧生长温度、扩散炉恒温时长、光刻对准误差、源漏掺杂配比，每一组数据都是她依托成熟的DTL双极工艺，反复推翻、反复调试摸索出的关键依据。

身旁两名年轻技术员正俯身紧盯显微镜，反复核对刚出炉的PMOS管芯切片，神情紧绷，眉宇间藏着一丝焦灼。

这段时间，他们最大的难题始终是栅极边缘毛刺、局部掺杂不均，屡屡拉低硅片成品率，好几次即将成型的工艺参数，都因这两处瑕疵功亏一篑。

年轻技术员压着心底的忐忑，轻声汇报，声音被口罩闷得低沉含糊。

“苏工，这批试样还是老问题。光刻显影后，栅极线条边缘不够平滑，有细微毛刺，而且部分片区掺杂浓度偏差超标，达不到量产标准。

我们按照原DTL工艺参数微调过几次，偏差反而更大。”

苏砚闻言没有立刻开口责备，只是微微颔首，抬手微调显微镜焦距，动作轻柔稳当，力道精准分毫不差。

她俯身凑近目镜，目光沉沉落在微小精密的管芯结构上，细细观察纹路、涂层与掺杂层次，几秒后便精准摸清了问题根源。

她直起身，指尖轻点记录本上的两组核心参数，语气平稳温和，却带着不容置疑的专业底气，字字清晰、条理分明。

“DTL是双极工艺，和我们现在攻坚的PMOS工艺底层逻辑完全不同，不能直接套用老参数。

双极工艺侧重电流放大，而PMOS核心在栅氧层的均匀度和可控性，生搬硬套只会出现边缘畸变、掺杂失衡。”

说着，她侧身让出操作台的位置，示意技术员上前实操观摩。

暖黄灯光落在她洁净服肩头，沉稳的嗓音在机器嗡鸣中清晰传开，耐心拆解每一处操作细节。

“接下来调整两组关键参数。第一，把氧化炉恒温区间上调三摄氏度，延长二十分钟恒温保持时间，让栅氧层生长得更均匀致密，从根源减少边缘毛刺。

第二，降低离子注入速率，放慢掺杂进度，宁可慢一点，也要保证整片硅片的掺杂浓度均匀统一，杜绝局部偏差。”

两名技术员连忙上前，一人紧盯仪器表盘记录参数，一人俯身核对显微镜下的管芯状态，紧绷的神经渐渐松弛。

苏砚一边紧盯设备运行状态，一边趁热打铁，纠正团队固化的老工艺思维。

“大家要记住，我们现在是在成熟的DTL工艺线上，硬生生开拓MOS集成电路的量产路径，不是简单的参数微调，而是工艺体系的革新。

以往进口零散IC参数杂乱、没有统一标准，我们现在每一次精准调试，都是在搭建属于我们自己的国产工艺规范。”

她抬手拿起一片调试合格的硅片，举到灯光下，薄如蝉翼的硅片泛着清冷细腻的光泽，规整均匀的电路纹路清晰可见。

“你们看，合格的PMOS小规模集成电路，线条平直无毛刺、掺杂均匀无偏差，这就是我们要落地的量产标准。

后续我们制定的逻辑IC、运算放大器国产规范，就要以这套工艺参数为基准，彻底摆脱对进口芯片的依赖，优先保障军用电台、精密仪器仪表的核心供给。”